薄膜材料デバイス研究会

龍谷大学 響都ホール校友会館  2016年10月21日(金) ~ 22日(土)

 

オーラルセッション1: IV 族次世代デバイス

“大気圧熱プラズマジェットを用いた4H-SiC の熱酸化”

 

ショートプレゼンテーション/ポスターセッション1

“ハイパワー大気圧熱プラズマジェット照射によるシリコン薄膜の高速溶融結晶化と結晶成長制御”

 

オーラルセッション3: フレキシブルデバイス

“中空構造 SOI 層を用いた低温転写における転写歩留まり向上とフレキシブル基板上での単結晶シリコンTFT と論理回路の作製”

 

ショートプレゼンテーション/ポスターセッション2

“中空構造 SOI 層を用いたフレキシブル基板への転写技術におけるパターン微小化”