薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード 受賞

 11月2日~11月3日まで、なら100年会館で開催された、薄膜材料デバイス研究会・第9回研究集会において発表した「大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるa-Si膜結晶化メカニズムの解明」が、研究成果及びその発表内容について、優秀であると評価されました。