応用物理学会中国四国支部学術講演会 発表奨励賞 受賞

 2012年7月28日に山口大学・常盤キャンパスで開催された、応用物理学会中国四国支部学術講演会において発表した「HfO2/Ge界面へのTaOx層挿入による界面反応制御と物性評価」が、研究成果及びその発表内容について、優秀であると評価された。