平成 26 年度第 4 回半導体エレクトロニクス部門委員会 第 1 回講演会・見学会

広島大学 学士会館レセプションホール(東広島キャンパス)   2015年1月14日   

招待講演
   東 清一郎 (教授)「大気圧プラズマを用いた急速熱処理技術と半導体デバイスプロセスへの応用」I-1


ポスター発表
   村上 秀樹(助教)「Ge MISFET実現のためのHfO2/Ge界面へのTaOx層挿入による界面反応制御と物性評価」P4
   浜田 慎也(M1)「Ge中のn型不純物高効率活性化」P8
   中川 明俊(M1)「プラスチック基板上への単結晶シリコン層の転写と薄膜トランジスタ応用」P9
   森崎 誠司(D3)「アモルファスシリコン細線を用いた大気圧熱プラズマジェット結晶成長制御および薄膜トランジスタ応用」P11
   花房 宏明(助教)「電子線後方散乱法を用いたリン注入4H-SiCの結晶性評価」P20