第30回プラズマプロセシング研究会 30th Symposium on Plasma Processing [SPP-30]
アクトシティ浜松・研修交流センター 2013年1月21日~23日

   “Grain Growth Control by Micro Thermal Plasma Jet Irradiation to Amorphous Silicon Strips and Improvement in Characteristic Variability of Thin Film Transistors”


 

5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2013)
Nagoya University,Japan Jan.28-Feb.1,2013

 “ Resistive switching behaviors of Si-rich oxide with Ti-based electrodes ”

 

応用物理学会 薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会
「ゲートスタック研究会」(第18回研究会)
会期:2013年1月25-26日
場所:ニューウェルシティー湯河原

口頭発表

 “不純物イオン注入 SiC 基板の高効率活性化と化学結合状態評価”

 

ポスターセッション     

【形成・評価・基礎物性】

 “X線光電子分光によるAs+イオン注入したGeの化学結合状態分析”

【メモリ・その他】

 “スパッタ形成したPt/SiOx/Pt構造の光電子分光分析”