薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード 受賞

 11月2日~11月3日まで、なら100年会館で開催された、薄膜材料デバイス研究会・第9回研究集会において発表した「大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるa-Si膜結晶化メカニズムの解明」が、研究成果及びその発表内容について、優秀であると評価されました。

 

 

 

 応用物理学会中国四国支部学術講演会 発表奨励賞 受賞

 2012年7月28日に山口大学・常盤キャンパスで開催された、応用物理学会中国四国支部学術講演会において発表した「HfO2/Ge界面へのTaOx層挿入による界面反応制御と物性評価」が、研究成果及びその発表内容について、優秀であると評価された。